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    真空镀膜机的均匀性以及技术含量

    作者:admin点击:0

    真空镀膜机厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也是说要实现10A甚至1A的表面平整

    真空镀膜机在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。

    真空镀膜机晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。

    真空镀膜机操作程序

    ① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。

    ② 打开总电源开关,设备送电。

    ③ 低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。

    ④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。

    ⑤ 落下钟罩。

    ⑥ 启动抽真空机械泵。

    ⑦ 开复合真空计电源

    a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。

    b.低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。

    ⑧ 当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

    ⑨ 真空镀膜机开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。

    ⑩ 低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀(阀杆顺时针旋转)。

    ⑪ 等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时,开规管灯丝开关。

    a. 发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。

    b. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

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